27일 DGIST에 따르면 이 책임연구원은 반도체 미세 구조에서 발생하는 열을 정밀하게 관측할 수 있는 첨단 분석 기술을 나노스코프시스템즈와 공동 개발하고, 이를 실제 장비로 구현해 사업화한 공로를 평가받았다.
(사진= DGIST
이 책임연구원은 “반도체 내부의 미세 발열 위치와 열 전파 과정을 시각적으로 관측할 수 있는 기술을 확보했다”며 “현재 반도체 연구는 물론 차세대 첨단 소자 연구에 폭넓게 활용될 수 있는 새로운 분석 도구가 될 것”이라고 말했다.









