퇴직 후 중국 회사 입사를 위해 SK하이닉스의 CIS(CMOS Image Sensor) 공정 관련 하이브리드 본딩 기술 등을 유출한 전 직원이 항소심에서도 징역형을 선고받았다.

9일 법조계에 따르면 서울고법 10-1형사부(고법판사 이상호 이재신 이혜란)는 산업기술의 유출방지 및 보호에 관한 법률 위반 등 혐의로 기소된 김 모 씨에 대해 1심과 같은 징역 1년 6개월을 선고했다.

김 씨는 SK하이닉스 중국 판매법인 상해사무소에서 주재원으로 일하던 중 중국 회사 입사용 이력서 작성을 위해 영업비밀 자료 170개(총 5900장 분량)를 사진 촬영해 무단 유출한 혐의를 받는다.

유출된 자료에는 CIS 공정 기술 관련 내용이 포함된 것으로 파악됐다. CIS 기술은 렌즈로 들어오는 빛을 감지해 전기적 영상 신호로 바꾸어주는 핵심 기술로 스마트폰부터 자동차 자율주행, 의료용 장비에 이르기까지 폭넓게 활용된다.

2심 재판부는 "피고인은 피해회사 중국 판매법인의 보안이 다소 소홀한 점을 이용했다"며 "범행 경위와 수단, 방법 등에 비추어 죄질이 무거워 엄한 처벌이 불가피하다"고 했다.

단 김 씨가 SK하이닉스를 위해 1000만 원을 공탁한 점, 유출한 영업비밀 중 대부분이 회수된 점 등은 유리한 양형 요소로 고려했다.

앞서 검찰은 이 사건 하이브리드 본딩 기술이 첨단기술로 인정된 TSV(실리콘관통전극) 기반의 3D 통합(integration) 공정 기술에 해당하지 않는다고 본 1심 판결에 사실오인 및 법리 오해가 있다며 항소했다.

하지만 2심 재판부는 이 사건 당시 하이브리드 본딩 기술은 산업통상자원부 장관이 고시한 '첨단기술 및 제품의 범위' 상 첨단기술에 해당한다고 볼 수 없다며 검사의 항소를 기각했다.

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