(사진=아이에스티이)
아이에스티이는 HBM 및 첨단 공정 수율 제고를 목표로 삼성전자와 ‘풉 인스펙션 복합장비’ 평가·검증도 진행 중이다. 회사는 지난 2월 말 관련 데모 장비를 납품해 현재 본격적인 평가 단계에 들어갔으며, 지난해 11월 수주한 전공정용 FOUP 클리너 역시 최근 납품을 마무리했다.
FOUP 클리너는 웨이퍼를 이동·보관하는 밀폐용기(FOUP) 내부의 미세 오염을 자동 세정·건조하는 설비로, 그동안 주로 전공정에서 활용돼 왔다. 다만 HBM처럼 복수의 D램 칩을 수직 적층하는 패키징 공정이 고도화되면서, 후공정 구간에서도 극도의 청정도가 요구돼 관련 장비 수요가 빠르게 확대되는 흐름이다. 아이에스티이는 이러한 변화 속에서 FOUP 클리너가 수율 관리의 핵심 인프라로 자리 잡을 것으로 보고 있다.
회사는 시장 변화를 선제적으로 반영해 2024년 국내 최초로 ‘HBM 전용 FOUP 클리너’를 개발했고, SK하이닉스를 통해 평가와 공급을 진행하면서 고객사 내 독점적 지위를 확보해 왔다. 올해 들어서도 SK하이닉스향 HBM 전용·전공정용 장비 수주가 잇따르며 업계의 주목을 받은 바 있다.
조창현 아이에스티이 대표이사는 “공정 청정도와 수율 기준이 갈수록 엄격해지는 첨단 반도체 시장에서 독자 기술을 글로벌 표준으로 안착시키고 이를 통해 주주가치와 중장기 성장을 함께 이끌어 가겠다”고 말했다.









