나노실리칸, 실리콘 음극재 제조공정 특허 잇단 출원…"기술 경쟁력 강화"

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이데일리,

2026년 9월 04일, 오후 02:58

[이데일리 박정수 기자] 이차전지 소재 기업 나노실리칸첨단소재(286750)(나노실리칸)가 실리콘 음극재의 제조원가 절감과 성능 개선을 위한 핵심 공정 기술의 지식재산권(IP) 확보에 나섰다.

나노실리칸은 지난해 말 출원한 ‘실리콘 음극재 제조공정’ 특허의 신속한 권리 확보를 위해 특허청의 의견제출통지서(OA)에 대한 의견서를 제출하고 우선심사를 신청했다고 4일 밝혔다.

해당 기술은 실리콘 음극재의 성능 향상을 위한 표면개질과 전도성 확보를 위한 탄소코팅을 하나의 공정에서 동시에 수행하는 것이 핵심이다. 기존에는 두 공정을 각각 진행하는 방식이 주로 활용돼 공정 단계가 늘어나고 제조원가 부담이 커질 수 있었지만, 나노실리칸은 이를 단일 공정으로 통합해 공정 효율을 높이고 제조원가를 낮출 수 있다고 설명했다.

관련 기술에 대한 후속 특허 출원도 이어지고 있다. 나노실리칸은 지난 8월 기존 기술을 보완·개량한 2차 특허와 3차 특허를 추가 출원했다.

후속 특허에는 표면개질과 탄소코팅을 동시에 진행하는 과정에서 발생하는 실리콘 표면의 변화를 정밀하게 제어하고 정량적으로 측정하는 방법론이 담겼다.

특히 3차 특허는 실리콘 음극재의 한계로 꼽히는 초기효율(Initial Coulombic Efficiency·ICE) 저하 문제를 개선하는 데 초점을 맞췄다. 소재 제조 단계에서 전리튬화(Pre-lithiation) 공정을 적용해 초기효율을 개선하는 메커니즘을 제시했다.

나노실리칸은 이번 연쇄 특허 출원을 통해 실리콘 음극재 관련 핵심 기술에 대한 IP를 선제적으로 확보하고 차세대 배터리 소재 시장에서 기술 경쟁력을 강화한다는 계획이다.

나노실리칸 관계자는 “이번 연쇄 특허 출원은 실리콘 음극재 상용화의 주요 걸림돌로 꼽혀온 높은 제조비용과 초기효율 저하 문제를 동시에 해결할 수 있는 독자적인 기술 기반을 마련했다는 데 의미가 있다”며 “우선심사 제도를 활용해 IP를 조기에 확보하고 차세대 배터리 소재 시장에서 기술 경쟁력을 지속적으로 강화해 나갈 것”이라고 말했다.

나노실리칸, 실리콘 음극재 제조공정 특허 잇단 출원…

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