정부가 반도체 핵심 공정에 사용되는 극자외선(EUV) 장비의 국내 도입 절차를 간소화한다. 이를 통해 장비 도입 소요 기간이 기존 34일에서 9일로 최대 25일 단축될 전망이다.

산업통상부는 2일 국무회의에서 글로벌 안전기준을 충족한 반도체 제조장비에 대해 고압가스 일반제조시설이 아닌 '특정설비' 기준을 적용하도록 하는 '고압가스 안전관리법 시행령 일부개정안'이 의결됐다고 밝혔다.

EUV 공정은 극자외선을 활용해 웨이퍼에 미세한 회로를 새겨넣는 첨단 반도체 집적화의 핵심 공정이다. EUV 장비의 안정적인 운전과 유지에는 수소·질소 등 가스가 필요하며, 이들을 안전하게 공급·저장·관리하기 위해 고압가스 설비가 활용된다.

이에 따라 EUV 장비는 현행 법령상 '고압가스 제조설비'로 분류됐다. 그 결과 EUV 장비 설치 시마다 기술 검토와 검사를 받아야 했고, 이 과정에서 장비 도입이 지연되고 기업 부담이 발생한다는 현장의 의견이 제기됐다.

이번 제도 개선으로 EUV 장비 도입 기간은 장비당 최대 25일 단축돼 도입 소요 기간이 기존 34일에서 9일로 줄어든다. 아울러 해외 공인검사기관 내압·기밀 검사 비용도 장비당 약 5억 원 절감될 것으로 예상된다.

이번 개정안은 차주 중 공포 후 즉시 시행될 예정이다.

김정관 산업부 장관은 "이번 법령 개정은 안전 확보와 첨단산업 경쟁력 강화를 동시에 달성하기 위한 대표적인 규제혁신 사례"라며 "앞으로도 글로벌 기준에 부합하는 합리적 안전관리 체계를 통해 첨단산업 투자를 적극 지원해 나가겠다"고 말했다.

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